[发明专利]用于校准装置的方法、用于校准多个并排放置的装置的方法以及适于实施这种方法的物体无效
| 申请号： | 200480008041.X | 申请日： | 2004-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN1765012A | 公开（公告）日： | 2006-04-26 |
| 发明（设计）人： | J·L·霍里乔恩;A·德博克;R·M·A·L·佩蒂特 | 申请（专利权）人： | 阿森姆布里昂股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/68 | 分类号： | H01L21/68 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 廖凌玲;黄力行 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于校准包括照相机的至少一个装置(2)的方法，其中使具有至少一个基准元件(4、11、12、13、14)的物体(3、10)进入所述照相机的成像区域内。从所述照相机得到的图像(5、6、8、9、15、16)中确定所述基准元件(4、11、12、13、14)相对于所述装置(2)的第一位置。随后对所述物体(3、10)施加相对于所述装置(2)的位移。从所述照相机得到的第二图像(5、6、8、9、15、16)中确定所述基准元件(4、11、12、13、14)相对于所述装置(2)的第二位置。由所述第一和第二相对位置确定所述物体(3、10)(3)相对于所述装置(2)的实际位移，将所述实际位移与所述施加的位移进行比较。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 校准 装置 方法 并排 放置 以及 适于 实施 这种方法 物体 | ||
【主权项】：
1、一种用于校准至少一个包括照相机的装置(2)的方法，其特征在于，使具有至少一个基准元件(4、11、12、13、14)的物体(3、10)进入所述照相机的成像区域内，其后从所述照相机得到的图像(5、6、8、9、15、16)中确定所述基准元件(4、11、12、13、14)相对于所述装置(2)的第一位置，随后对所述物体(3、10)施加相对于所述装置(2)的位移，从所述照相机得到的第二图像(5、6、8、9、15、16)中确定所述基准元件(4、11、12、13、14)相对于所述装置(2)的第二位置，其后由所述第一和第二相对位置确定所述物体(3、10)(3)相对于所述装置(2)的实际位移，将所述实际位移与所述施加的位移进行比较。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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