[发明专利]多层结构以及在其中绘制微观结构的方法无效
| 申请号： | 200480008410.5 | 申请日： | 2004-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN1768381A | 公开（公告）日： | 2006-05-03 |
| 发明（设计）人： | 金朱镐;朴仁植;桑原正史;富永淳二;岛隆之 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社;独立行政法人产业技术总合研究所 |
| 主分类号： | G11B7/24 | 分类号： | G11B7/24 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人： | 韩明星;冯敏 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了：一种多层结构，当其温度超过预定的阈值时其体积变化；一种微观结构绘制方法，包括将激光束发射到多层结构上以在束斑以内引起温度分布，并在具有温度高于阈值的束斑的一部分上执行微观记录；一种光盘母盘；一种使用多层结构的母盘制作方法，其中，多层结构包括基板和在该基板上形成的变形层，其中，当被激光束辐射的变形层的一部分的温度超过预定温度时，这部分的体积变化。微观结构绘制方法包括将激光束发射到变形层的预定区域上，并将被激光束辐射的变形层的区域加热到超过预定的温度，从而被加热的区域会发生体积变化。 | ||
| 搜索关键词： | 多层 结构 以及 其中 绘制 微观 方法 | ||
【主权项】：
1、一种多层结构，包括：基板；变形层，形成在所述基板上，其中，当被激光束辐射的所述变形层的一部分的温度超过预定温度时，其体积变化。
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