[发明专利]纳米层沉积法

摘要

提供了一种CVD和ALD的混合沉积法，其称为纳米层沉积(“NLD”)。该NLD法是一种循环沉积法，包括第一步(40)：引入第一多个前体，用非自限制的沉积方法沉积薄膜，然后第二步(41)：排空第一组前体和第三步(42)：引入第二多个前体以改进该沉积薄膜。NLD中的沉积步骤是非自限制的且为基底温度和处理时间的函数。第二组前体改进该已沉积膜的特性。第二组前体可处理该沉积膜，例如膜组成的改进、掺杂、或杂质的去除。第二组前体还可沉积另一膜。附加的层可与现有的层反应以形成化合物层，或可最低限度地反应以形成纳米层压膜。

主权项

1.一种沉积薄膜的沉积方法，包括下列步骤：a.向室中引入第一多个前体，以非自限制的沉积方法在基底上沉积第一层；b.排空该第一前体；和c.在改进方法中引入对该沉积的第一层进行改进的第二不同多个前体，其中第二多个前体中的至少一种前体不同于第一多个前体。