[发明专利]紫外线响应型薄膜光催化剂及其应用无效
| 申请号： | 200480008697.1 | 申请日： | 2004-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN1842371A | 公开（公告）日： | 2006-10-04 |
| 发明（设计）人： | 垰田博史;加藤薰一 | 申请（专利权）人： | 株式会社光触媒研究所 |
| 主分类号： | B01J35/02 | 分类号： | B01J35/02;B01J35/04;B01J19/12;A61L9/00;A61L9/20;F24F1/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王健 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供紫外线响应型薄膜光催化剂及其应用，本发明涉及形成薄膜的二氧化钛光催化剂的晶体尺寸为5nm～50nm，吸光波长峰在200nm～300nm的区域内，膜厚为0.1～1.0微米的透明薄膜二氧化钛光催化剂，上述光催化剂的特征在于：形成薄膜的二氧化钛的晶体形状是纺锤形晶体和立方形晶体的混合状态，本发明涉及一种过滤器，其特征在于：作为基材，使用以碳化硅(SiC)、非晶态二氧化硅(SiO2)或二氧化硅作为主要成分的无机纸或者以活性炭、沸石或海泡石作为主要成分的无机纸，以及本发明涉及一种空气除菌净化装置，其特征在于：使上述过滤器和杀菌紫外线灯组合。 | ||
| 搜索关键词： | 紫外线 响应 薄膜 光催化剂 及其 应用 | ||
【主权项】：
1、透明薄膜二氧化钛光催化剂，其中，形成薄膜的二氧化钛光催化剂的晶体尺寸为5nm～50nm，吸光波长峰在200nm～300nm的区域内，膜厚为0.1～1.0微米。
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