[发明专利]磁记录介质、其制造方法及磁记录再现装置无效
| 申请号： | 200480008701.4 | 申请日： | 2004-04-06 |
| 公开（公告）号： | CN1768376A | 公开（公告）日： | 2006-05-03 |
| 发明（设计）人： | 大泽弘 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/66 | 分类号： | G11B5/66 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;于静 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的是提供一种可以降低介质噪声的磁记录介质。本发明提供一种磁记录介质，其以如下顺序在非磁性衬底上包括至少非磁性底涂层、第一磁性层、非磁性耦合层、第二磁性层、以及保护层，其中第二磁性层与第一磁性层反铁磁性耦合，以及第一磁性层由CoCrZr合金制成。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 制造 方法 再现 装置 | ||
【主权项】：
1.一种磁记录介质，其以如下顺序在非磁性衬底上包括至少非磁性底涂层、第一磁性层、非磁性耦合层、第二磁性层、以及保护层，其中所述第二磁性层与所述第一磁性层反铁磁性耦合；以及所述第一磁性层由CoCrZr合金制成。
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