[发明专利]光敏树脂膜及其固化膜有效
| 申请号： | 200480008907.7 | 申请日： | 2004-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN1768304A | 公开（公告）日： | 2006-05-03 |
| 发明（设计）人： | 岩永伸一郎;木村徹;西川耕二 | 申请（专利权）人： | 捷时雅株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/033 | 分类号： | G03F7/033;C09D133/04 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 周承泽 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的呈未固化状态的光敏树脂膜包含(A)一种特殊的碱溶性共聚物，(B)具有至少一个烯键式不饱和双键的化合物，以及(C)一种辐射敏感的自由基聚合引发剂，通过使用该引发剂，呈未固化状态的、干膜厚度为70μm的涂膜在365nm具有不低于10％的辐射透射率，在405nm具有不低于60％的辐射透射率。以100重量份组分(A)计，该光敏树脂膜中的辐射敏感的自由基聚合引发剂(C)的含量为20－40重量份，并且该光敏树脂膜的干膜厚度不低于50μm。根据该光敏树脂膜可容易地在芯片基底上高精度地形成不低于50μm的高凸起，而常规技术难于形成这样的高凸起。此外，还能抑制元件的连接失效并能提高元件的可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 光敏 树脂 及其 固化 | ||
【主权项】：
1.一种呈未固化状态的光敏树脂膜，它包含：(A)碱溶性共聚物，它包含：(a)得自α-甲基-对羟基苯乙烯的组成单元，其含量为1-30重量％，(b)得自具有羧基的可自由基聚合的化合物的组成单元，其含量为5-20重量％，(c)得自丙烯酸脂肪酯的组成单元，其含量为20-40％，以及(d)得自具有多环脂肪族基团的可自由基聚合的化合物的组成单元，其含量为30-60重量％，(B)具有至少一个烯键式不饱和双键的化合物，以及(C)辐射敏感的自由基聚合引发剂，通过使用该引发剂，呈未固化状态的、干膜厚度为70μm的涂膜在365nm具有不低于10％的辐射透射率，在405nm具有不低于60％的辐射透射率，其中，以100重量份组分(A)计，所述辐射敏感的自由基聚合引发剂(C)的含量为20-40重量份，并且所述光敏树脂膜的干膜厚度不低于50μm。
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