[发明专利]有机薄膜制造方法有效
| 申请号： | 200480009940.1 | 申请日： | 2004-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN1774305A | 公开（公告）日： | 2006-05-17 |
| 发明（设计）人： | 木村信夫;藤田佳孝;中本宪史;肥高友也 | 申请（专利权）人： | 日本曹达株式会社 |
| 主分类号： | B05D1/18 | 分类号： | B05D1/18;B05D7/24;C08J7/06;C03C17/30 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐谦;经志强 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种可以迅速而且稳定地多次连续形成杂质少、致密的有机薄膜的有机薄膜制造方法。该有机薄膜制造方法是在基板表面上形成有机薄膜的有机薄膜制造方法，其特征在于，包括把含有具有至少1个或更多个水解性基团的金属类表面活性剂和可以与此金属类表面活性剂相互作用的催化剂的有机溶剂溶液与所述基板接触的工序(A)，将所述有机溶剂溶液中的水分含量设定或保持在规定量范围。 | ||
| 搜索关键词： | 有机 薄膜 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.有机薄膜制造方法，其是在基板表面上形成有机薄膜的有机薄膜制造方法，其特征在于，包括把含具有至少1个或更多个水解性基团的金属类表面活性剂以及可以与此金属类表面活性剂相互作用的催化剂的有机溶剂溶液与所述基板接触的工序(A)，将所述有机溶剂溶液中的水分含量设定或保持在规定范围。
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