[发明专利]用于印刷构图抗蚀剂层的组合物和方法无效
| 申请号： | 200480010035.8 | 申请日： | 2004-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN1774670A | 公开（公告）日： | 2006-05-17 |
| 发明（设计）人： | 安娜·L·鲍坎普－韦吉诺尔特兹;阿里·R·范多恩 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;C09D11/02;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 王英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于将构图的抗蚀剂层印刷到底层、优选为可蚀刻层的组合物，包括：a)酸官能树脂，其可溶于碱性介质且不溶于酸性介质，具有至少100mg KOH/g的酸值；b)具有100到250℃之间沸点的基础溶剂；以及c)具有200到350℃之间沸点的粘结溶剂；假设粘结溶剂的沸点高于基础溶剂的沸点。本发明还涉及用于制造构图层、像素设计和LCD显示器的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 印刷 构图 抗蚀剂层 组合 方法 | ||
【主权项】：
1、一种用于将构图的抗蚀剂层印刷到底层、优选为可蚀刻层的组合物，包括：a)酸官能树脂，其可溶于碱性介质且不溶于酸性介质，具有至少100mg KOH/g的酸值；b)基础溶剂，具有100和250℃之间的沸点；以及c)粘结溶剂，具有200和350℃之间的沸点；假设该粘结溶剂的沸点高于该基础溶剂的沸点。
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