[发明专利]两相聚合物材料及其制备方法有效
| 申请号： | 200480010517.3 | 申请日： | 2004-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN1777664A | 公开（公告）日： | 2006-05-24 |
| 发明（设计）人： | 帕维尔·I·拉扎列夫 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | C09K19/38 | 分类号： | C09K19/38;C09K19/00;G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 章社杲;张英 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了基于两相聚合物材料的光学各向异性膜及其制备方法。两相聚合物材料包括聚合物基体和经有序化和固定的有机分子的部分晶体膜。该聚合物基体提供了所期望的机械性能，而晶体膜则提供了所制备材料的期望的光学性能。 | ||
| 搜索关键词： | 两相 聚合物 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于制备两相聚合物材料的方法，包括以下步骤：通过用多离子型化合物进行处理来固定溶致液晶，其中所述溶致液晶包括超分子在溶剂中的溶液，所述超分子包括经改性的有机物质的分子，所述分子各自具有一个或多个改性官能团，并且所述多离子型化合物能够形成用于所述改性官能团的抗衡离子；施加外部取向力，以使所述经固定的溶致液晶有序；基本上除去所述溶剂，用以形成第一相，所述第一相包括所述经有序化和固定的有机分子的膜；以及通过用粘合剂处理所述膜来形成包括聚合物基体的第二相。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社，未经日东电工株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200480010517.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
