[发明专利]包括场效应晶体管的半导体器件及其操作方法无效
申请号: | 200480010691.8 | 申请日: | 2004-04-21 |
公开(公告)号: | CN1777993A | 公开(公告)日: | 2006-05-24 |
发明(设计)人: | R·加贾哈辛;T·C·罗伊德勒;P·C·A·哈梅斯;S·J·C·H·蒂尤文 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/06 | 分类号: | H01L27/06;H01L29/417;H01L29/78 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 张雪梅;梁永 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明特别涉及一种具有漏极延展部(8)的横向DMOST。在公知的晶体管中,另一金属条(20)设置在栅电极接触条与漏极接触(16)之间,该漏极接触电连接于源极区接触(15)。在这里所提出的器件中,在另一金属条(20)与源极接触(15、12)之间的连接包括电容器(30)且该另一金属条(20)设置有用于向该另一金属条(20)传送电压的另一接触区(35)。这样,能够改善线性度,且特别是提高了器件在高功率和高频率下的有用性。优选电容器(30)与晶体管集成在单个半导体主体(1)上。本发明还包括操作根据本发明的器件(10)的方法。 | ||
搜索关键词: | 包括 场效应 晶体管 半导体器件 及其 操作方法 | ||
【主权项】:
1、一种半导体器件,包括半导体主体,该半导体主体在表面处设置有场效应晶体管且包括重掺杂源极区和漏极区以及在源极区与漏极区之间延伸的沟道区,还存在栅电极,其与沟道区交迭并垂直投影于其上,其中源极区、漏极区和栅电极在表面处分别连接到金属源极接触、漏极接触和栅电极接触,且其中,在栅电极接触与漏极接触之间放置另一金属条,该金属条与半导体主体绝缘,局部地电连接于源极条,并在栅电极与漏极接触之间形成屏蔽,其特征在于,该另一金属条与源极接触之间的电连接包括电容器,且其特征还在于该另一金属条设置有用于向该另一金属条施加外部电压的连接接触。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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