[发明专利]用于在光学器件中相移光束的方法和设备有效
| 申请号： | 200480011244.4 | 申请日： | 2004-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN1781054A | 公开（公告）日： | 2006-05-31 |
| 发明（设计）人： | 雷莫斯·尼古拉斯库;理查德·琼斯 | 申请（专利权）人： | 英特尔公司 |
| 主分类号： | G02F1/025 | 分类号： | G02F1/025 |
| 代理公司： | 北京英特普罗知识产权代理有限公司 | 代理人： | 齐永红 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于调制光束相位的装置和方法。在一个实施方案中，根据本发明实施方案的装置包括设置在第二半导体区中的第一半导体区。绝缘区设置在限定绝缘区与第一和第二半导体材料区之间的多个界面的第一和第二半导体材料区之间。光束和多个界面之间的入射角基本上等于布儒斯特角。在第一和第二半导体区中，包括靠近多个界面的多个电荷调制区，从而使得，响应于多个电荷调制区，定向通过多个界面和多个电荷调制区的光束被相移。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学 器件 相移 光束 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种光学相移器，包括：第一半导体材料区，所述第一半导体材料区设置在第二半导体材料区中；绝缘区，所述绝缘区设置在所述第一和第二半导体材料区之间；多个界面，所述多个界面在绝缘区与第一和第二半导体材料区之间被限定，其中光束和所述多个界面之间的入射角基本上等于布儒斯特角；以及多个电荷调制区，所述多个电荷调制区靠近在所述第一和第二半导体区中的所述多个界面，从而使定向通过所述多个界面和所述多个电荷调制区的光束响应于所述多个电荷调制区而被相移。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英特尔公司，未经英特尔公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200480011244.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
