[发明专利]在光学器件中使用的含苯并三唑的新聚合物无效
| 申请号： | 200480012058.2 | 申请日： | 2004-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN1784445A | 公开（公告）日： | 2006-06-07 |
| 发明（设计）人： | J·罗杰斯;M·R·克雷格;T·谢菲尔 | 申请（专利权）人： | 西巴特殊化学品控股有限公司 |
| 主分类号： | C08G61/12 | 分类号： | C08G61/12 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘维升;赵苏林 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明涉及含苯并三唑重复单元的聚合物。含本发明聚合物的光学器件在色纯度、器件效率和/或使用寿命上可以表现出显著的优点。此外，所述聚合物具有良好的溶解度特性以及相对高的玻璃转化温度，这有助于将它们制备成相对薄的、热稳定的和相对没有缺陷的涂层和薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 器件 使用 聚合物 | ||
【主权项】：
1.包含下式重复单元的聚合物![]()
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或![]()
其中x和y相互独立地是0或1，X1和X2互相独立地是二价连接基，Ar1、Ar2、Ar3、Ar4、Ar5、Ar6、Ar7和Ar8互相独立地是可以任选被取代的芳基或杂芳基，尤其是可以任选被取代的C6-C30芳基或C2-C26杂芳基。
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