[发明专利]投影光学系统、曝光装置及曝光方法有效
| 申请号： | 200480012069.0 | 申请日： | 2004-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN1784623A | 公开（公告）日： | 2006-06-07 |
| 发明（设计）人： | 大村泰弘 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G02B17/08 | 分类号： | G02B17/08;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种使色象差和像面弯曲等诸象差被良好地修正，并具有优良的成像性能，且可良好地抑制光学面上的反射损失并确保大的有效的像侧数值孔径的比较小型的投影光学系统，且为将第1面(R)的缩小像形成在第2面(W)上的反射折射型的投影光学系统。该投影光学系统包括至少2片反射镜(CM1、CM2)、第1侧的面具有正的折射力的边界透镜(Lb)，且边界透镜和第2面间的光路由具有较1.1大的折射率的媒质(Lm)进行填充。构成投影光学系统的所有透射构件及具有折射力的所有反射构件都沿单一的光轴(AX)进行配置，并具有不包含光轴的设定形状的有效成像区域。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 光学系统 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1、一种投影光学系统，为一种将第1面的缩小像形成在第2面上的反射折射型的投影光学系统，其特征在于：前述投影光学系统包括至少2片反射镜、第1面侧的面具有正的折射力的边界透镜；当使前述投影光学系统的光路中的环境的折射率为1时，前述边界透镜和前述第2面间的光路由具有较1.1大的折射率的媒质充满；构成前述投影光学系统的所有的透过构件及具有折射力的所有的反射构件沿单一的光轴进行配置；前述投影光学系统具有不含有前述光轴的设定形状的有效成像区域。
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