[发明专利]紫外线屏蔽性贴剂有效
| 申请号： | 200480012391.3 | 申请日： | 2004-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN1784219A | 公开（公告）日： | 2006-06-07 |
| 发明（设计）人： | 桥本好明;高田恭宪;鹤田清美 | 申请（专利权）人： | 久光制药株式会社 |
| 主分类号： | A61K9/70 | 分类号： | A61K9/70;A61K47/22;A61K47/32;A61K45/00;A61K31/192;A61P29/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的目的在于提供即使在直射太阳光线时，药物也不会光分解，且充分显示药效，同时制剂的物性和安全性优异的贴剂。本发明提供一种贴剂，其包含聚酯类支持体和在该聚酯类支持体的一面上设置的含有非甾体类抗炎药物(NSAID)的粘合剂层，其中所述支持体含有以通式(1)所示的羟基苯基苯并三唑衍生物，式中，R1和R2可以相同或不同，是氢或C1～C8的烷基，X是卤原子。 | ||
| 搜索关键词： | 紫外线 屏蔽 性贴剂 | ||
【主权项】：
1.一种贴剂，其包含聚酯类支持体和在该聚酯类支持体的一面上设置的含有非甾体类抗炎药物(NSAID)的粘合剂层，其中所述支持体含有以通式(1)所示的羟基苯基苯并三唑衍生物，![]()
式中，R1和R2可以相同或不同，是氢或C1～C8的烷基，X是卤原子。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于久光制药株式会社，未经久光制药株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200480012391.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：甲硼烷四氢呋喃络合物溶液的制备方法
- 下一篇：四用洁具
