[发明专利]负性光致抗蚀剂组合物无效
| 申请号： | 200480012725.7 | 申请日： | 2004-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN1788239A | 公开（公告）日： | 2006-06-14 |
| 发明（设计）人： | 广崎贵子;新堀博 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 程金山 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种负性光致抗蚀剂组合物，该组合物用于这样形成图案的方法中：其中将底层膜置于基片上，含有负性光致抗蚀剂组合物的光致抗蚀层置于所述底层膜上面，该光致抗蚀膜被选择地曝光，然后所述底层膜和所述光致抗蚀膜同时经受显影处理，而且该组合物包括(A)碱可溶性树脂，(B)用射线辐照时生成酸的酸生成剂，和(C)交联剂，该组合物的特征在于所述酸生成剂(B)包括含有无亲水基阳离子的鎓盐。该负性光致抗蚀剂组合物可以形成分辨率改善的抗蚀图案。 | ||
| 搜索关键词： | 负性光致抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
1.一种负性光致抗蚀剂组合物，其包括(A)碱可溶性树脂，(B)辐照下生成酸的酸生成剂，和(C)交联剂，所述组合物用于这样形成图案的方法中：其中将底层膜置于基片上，含有所述负性光致抗蚀剂组合物的光致抗蚀膜置于所述底层膜的上面，所述光致抗蚀膜被选择地曝光，然后所述底层膜和所述光致抗蚀膜同时经受显影处理，其中所述酸生成剂(B)包括含有无亲水基阳离子的鎓盐。
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