[发明专利]用于评估光刻中的多次曝光工艺的结果的方法无效
| 申请号： | 200480012873.9 | 申请日： | 2004-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN1788237A | 公开（公告）日： | 2006-06-14 |
| 发明（设计）人： | C·A·丰塞卡;S·J·布科夫斯基;黎家辉 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03C5/00 | 分类号： | G03C5/00;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 于静;李峥 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种评估多次曝光光刻工艺的工艺结果的方法，首先独立地确定多次曝光工艺的各曝光步骤或工艺的一组期望图像(组1，组2)，然后通过由来自后面的曝光步骤的加权图像(组2)调整来自第一或在前的曝光步骤的图像(组1)，来获得复合图像组(最终组)。优选，通过在各曝光步骤的散焦范围上以标准化空间图像的形式进行模拟，来确定期望的图像，所使用的加权因数为后面的曝光剂量与前面步骤的曝光剂量的剂量比值。可以使用最终的复合图像组来评估多次曝光光刻工艺，例如，对于给定的剂量和焦距误差预计来提供产量评估，或可选的是，提供用于实现获得目标产量所需的工具误差预计的规格。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 评估 光刻 中的 多次 曝光 工艺 结果 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于评估多次曝光光刻工艺的方法，该方法包括：提供第一次曝光工艺；根据所述第一次曝光工艺确定第一多个图像(组1)，其中将所述第一多个图像形成在第一曝光条件的第一范围上；提供第二曝光工艺；根据所述第二曝光工艺确定第二多个图像(组2)，其中将所述第二多个图像形成在第二曝光条件的第二范围上；确定第三多个图像(最终组)，其中所述第三多个图像中的每一个包括由通过加权因数加权的所述第二多个图像(组2)中的一个调整的所述第一多个图像(组1)中的一个；以及利用所述第三多个图像(最终组)评估顺次实施所述第一曝光工艺和所述第二曝光工艺的结果。
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