[发明专利]微结构及其微结构产生的工艺无效
| 申请号： | 200480013558.8 | 申请日： | 2004-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN1791813A | 公开（公告）日： | 2006-06-21 |
| 发明（设计）人： | A·希林;W·R·汤普金 | 申请（专利权）人： | OVD基尼格拉姆股份公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;B42D15/10;G06K19/16 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 李玲 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 光衍射微结构可通过至少两个凸纹结构的重叠来产生，其中，第一个凸纹结构是机械产生的，而至少有一个第二个凸纹结构是照相制版所产生的衍射结构。一种适用于光衍射微结构产生的工艺，该光衍射微结构是叠加重叠的，它包括一个凸纹结构和至少一个衍射结构，并可采用下列步骤来区分：a)在基板(1)上产生光刻胶层(2)，其空白表面具有凸纹结构，b)采用相干光在凸纹结构(5)上产生干涉图形，c)根据干涉图形取向凸纹结构，d)借助于干涉图形曝光凸纹结构，e)显影光刻胶，其中去除在曝光操作过程中变化的光刻胶材料，并且在凸纹结构上产生诸如所述衍射结构的凹槽(13)之类的凹坑，以及，f)烘干所述光刻胶。 | ||
| 搜索关键词： | 微结构 及其 产生 工艺 | ||
【主权项】：
1.一种微结构，该微结构是通过一个第一凸纹结构与至少一个第二凸纹结构相重叠而形成的，其特征在于，所述第一凸纹结构(5)是在层(2)中机械产生的，而所述至少一个第二凸纹结构是一种衍射结构(12)，该衍射结构是以光化学方式产生在所述第一凸纹结构(5)的表面上且具有例如凹槽(13)的凹坑。
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