[发明专利]用于耦合波导的方法与系统无效
| 申请号： | 200480014131.X | 申请日： | 2004-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN1795409A | 公开（公告）日： | 2006-06-28 |
| 发明（设计）人： | 卓塞弗·阿贝尔斯;大卫·卡培维尔;卢·迪马尔科;马丁·克瓦柯尔纳阿克;纳根德拉纳斯·马雷;胡曼·莫塞尼;拉尔弗·惠利;杨立友 | 申请（专利权）人： | 斗日电子通信株式会社 |
| 主分类号： | G02B6/30 | 分类号： | G02B6/30 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 康建忠 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种用于光子耦合到形成于衬底上的至少一个有源光子器件结构的方法，所述方法包括：通过朝向结晶平面的高选择性来蚀刻所述有源器件结构，以形成相对于所述衬底的倾斜边界；以及，在所述已蚀刻的边界和所述衬底的至少一部分上淀积至少一个波导；其中，将所述波导光子耦合到所述已蚀刻的有源器件结构，以便为所述已蚀刻的有源器件结构提供光子互连性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 耦合 波导 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于光子耦合到形成于衬底上的至少一个有源光子器件结构的方法，所述方法包括：通过朝向结晶平面的高选择性来蚀刻所述有源器件结构，以形成相对于所述衬底的倾斜边界；以及在所述已蚀刻的边界和所述衬底的至少一部分上淀积至少一个波导；其中，将所述波导光子耦合到所述已蚀刻的有源器件结构，以便为所述已蚀刻的有源器件结构提供光子互连性。
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