[发明专利]使用垫调节装置的传感信号来控制化学机械研磨的方法及系统有效
| 申请号： | 200480014571.5 | 申请日： | 2004-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN1795076A | 公开（公告）日： | 2006-06-28 |
| 发明（设计）人： | J·克雷默;U·G·施特克格恩;J·库纳特 | 申请（专利权）人： | 先进微装置公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B53/007;B24B49/10 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 戈泊;程伟 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 在本发明的系统与方法中，源自垫调节系统的驱动组件的传感信号，例如电机电流信号，被用来估计化学机械研磨(CMP)系统内的一个或更多的消耗品(113)的状态。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 调节 装置 传感 信号 控制 化学 机械 研磨 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于化学机械研磨的系统，包括：可移动与可驱动的研磨头(104)，用于收纳衬底且将该衬底固定于适当处；装载于平台(101)上的研磨垫(102)，该平台(101)耦合至第一驱动组件(105)；耦合至第二驱动组件(112)的垫调节组件(110)，该第二驱动组件(112)包括至少一个电动电机；以及控制单元(120)可操作地连接至该研磨头(105)以及第一(105)与第二驱动组件(112)，该控制单元(120)配置成用于控制该第一(105)与第二驱动组件(112)的操作，其中该控制单元(120)被进一步配置成在接收来自第二驱动组件(112)的传感信号之后，提供该系统的消耗品构件(113)的至少一个特性的读数。
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