[发明专利]磁记录介质、其制造方法及磁记录与再现装置有效
| 申请号： | 200480015635.3 | 申请日： | 2004-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN1802697A | 公开（公告）日： | 2006-07-12 |
| 发明（设计）人： | 坂胁彰;清水谦治;小林一雄;酒井浩志;及川壮一;岩崎刚之;前田知幸;中村太 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社;株式会社东芝 |
| 主分类号： | G11B5/66 | 分类号： | G11B5/66;G11B5/851 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;李峥 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种磁记录介质，其在非磁性基片1上提供至少：取向控制层3，用来控制直接形成于其上的层的取向、垂直磁性层4，具有取向基本垂直于非磁性基片1的易磁化轴、以及保护层5，其特征在于，垂直磁性层4包括两个或更多个磁性层，所述磁性层中的至少一个是主要成分为Co、还包含Pt且包含氧化物的层4a，并且所述磁性层的至少另一个是主要成分为Co、还包含Cr且不包含氧化物的层4b。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 制造 方法 再现 装置 | ||
【主权项】：
1.一种磁记录介质，其在非磁性基片上提供至少：取向控制层，其用于控制直接形成于其上的层的取向、垂直磁性层，其具有取向基本垂直于所述非磁性基片的易磁化轴、以及保护层，所述介质的特征在于，所述垂直磁性层包括两个或更多个磁性层，所述磁性层中的至少一个是主要成分为Co、还包含Pt且包含氧化物的层，并且所述磁性层中的至少另一个是主要成分为Co、还包含Cr且不包含氧化物的层。
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