[发明专利]光掩模及视频器件的制造方法无效
| 申请号： | 200480015759.1 | 申请日： | 2004-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN1802605A | 公开（公告）日： | 2006-07-12 |
| 发明（设计）人： | 岩永义德 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/08 | 分类号： | G03F1/08 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 曲瑞 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种在透光性基板表面的转印区域上形成了由遮光性膜图案构成的器件图案的光掩模，该光掩模在周边部的非转印区域上具有由遮光性膜图案构成的产品识别图案等非器件图案，至少在与形成了该非器件图案的位置相对的透光性基板背面，作为减少从该透光性基板背面的周边部入射的曝光光的透过的光透射减少部件设置有减少光透射薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 光掩模 视频 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种在透光性基板表面上形成了遮光性膜图案的光掩模，其特征在于：上述光掩模在周边部的非转印区域上具有由遮光性膜图案构成的非器件图案，至少在与形成有上述非器件图案的位置相对向的透光性基板背面，设置了减少从该透光性基板背面的周边部入射的曝光光的透过的减少光透过部件。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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