[发明专利]具有边缘表面处理的抛光垫片无效
| 申请号： | 200480015767.6 | 申请日： | 2004-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN1802237A | 公开（公告）日： | 2006-07-12 |
| 发明（设计）人： | R·G·斯威舍;A·E·王 | 申请（专利权）人： | PPG工业俄亥俄公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24D13/14 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 龙传红 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及具有底层和抛光层的抛光垫片。底层的外周边的表面至少部分地处理，以减少抛光液经由外周边吸收或渗透入底层中。表面处理的应用至少减少在抛光过程中由抛光垫片的底层吸收的抛光液的量。本发明的抛光垫片可用于抛光微电子基材和尤其用于半导体片的化学机械平面化。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 边缘 表面 处理 抛光 垫片 | ||
【主权项】：
1.用于抛光微电子基材的抛光垫片，它包括：适合于抛光所述基材的抛光层；基本上液体渗透性材料的底层，其中所述抛光层和所述底层至少部分地连接；和所述底层的外周边，其中所述外周边的至少一部分具有表面处理，所述表面处理有效地减少抛光液经由所述外周边的吸收。
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