[发明专利]偏转磁场型真空电弧蒸镀装置

摘要

偏转磁场型真空电弧蒸镀装置具有蒸镀单元(UN1、UN2)，这些单元包含蒸发源(3、3’)和附设磁场形成线圈(400、42、42’)的弯曲过滤槽(4、4’)。槽(4、4’)形成朝向被成膜件托架(2)的公共槽端部(40)，在各槽的相反侧端部(41、41’)设置蒸发源(3、3’)。槽端部(40)设置共用线圈(400)，同时各槽还设置又一个线圈(42、42’)。对各线圈装配设置状态调整装置(电动机m1、m2和驱动装置PC；电动机M1、M2和驱动装置PC 1；电动机M1’、M2’和驱动装置PC1’)。这种蒸镀装置生产率良好地在被成膜件上形成所希望结构的优质薄膜。

主权项

1、一种偏转磁场型真空电弧蒸镀装置，其特征在于，具有多个蒸镀单元，该蒸镀单元分别包含利用阳极与阴极之间的真空电弧放电使该阴极材料蒸发并且同时离子化的至少一个蒸发源，以及附设使由该蒸发源离子化的阴极材料飞往托架、以便在该托架支撑的被成膜件上形成包含该阴极材料构成元素的膜的至少一个偏转磁场形成构件的弯曲过滤槽，形成该多个蒸镀单元各自的所述弯曲过滤槽、使其朝向所述托架的槽端部与其它弯曲过滤槽的朝向该托架的槽端部为公共槽端部，并且在该过滤槽相反侧的端部分别设置至少一个蒸发源，具有磁场形成构件调整装置，该磁场形成构件调整装置调整对所述多个蒸镀单元的过滤槽中至少一条过滤槽设置的所述偏转磁场形成构件中的至少一个偏转磁场形成构件相对于该过滤槽的设置状态，以便控制磁场。