[发明专利]用于对微特征工件机械和/或化学－机械抛光的方法和包括下垫的抛光机

摘要

本发明公开了一种用于对微特征工件(112)进行机械和/或化学－机械抛光的抛光机以及方法。在一个实施例中，所述抛光机包括具有支撑表面的台，通过支撑表面所承载的下垫，以及在所述台之上的承载器组件(130)。下垫(150)具有空腔(152)，承载器组件被构造以承载微特征工件。所述抛光机还包括磁场源(170)，所述磁场源(170)被构造以在空腔中和设置在空腔中的磁流变流体(160)中产生磁场。在磁场源的影响下磁流变流体改变空腔之内的粘性。

主权项

1.一种用于对微特征工件进行机械和/或者化学-机械抛光的抛光机，所述抛光机包括：具有支撑表面的台；通过支撑表面所承载的下垫，下垫具有空腔；在所述台之上的工件承载器组件，所述承载器组件被构造以承载微特征工件；磁场源，所述磁场源被构造以在空腔中产生磁场；以及空腔中的磁流变流体。