[发明专利]用于高温超导体装置的低温冷却的方法和设备有效
| 申请号： | 200480016769.7 | 申请日： | 2004-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN1806153A | 公开（公告）日： | 2006-07-19 |
| 发明（设计）人： | 袁兴;进三根 | 申请（专利权）人： | 美国超能公司 |
| 主分类号： | F25B19/00 | 分类号： | F25B19/00;F25D23/12 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 顾敏 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于为HTS装置(24)、特别是用于高电压电力用途的HTS装置提供低温冷却的方法和设备。该方法包括将液体制冷剂(46、48)加压至高于一个大气压，从而改进其介电强度，同时将液体制冷剂过冷却至低于其饱和温度，从而改进装置HTS元件(24)的性能。使用这种冷却方法的设备(10)由以下各部分组成：包括加压气态制冷剂区(44)和过冷液态制冷剂浴的容器；与气态制冷剂排气装置(30)连结的液体制冷剂加热装置(52)，这些连结的装置用来将制冷剂的压力保持在使液体制冷剂具有最佳介电强度的范围；并用来将液体制冷剂(46、48)的温度保持在其沸点以下，以便改进装置(10)中所用的HTS材料(24)的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 高温 超导体 装置 低温 冷却 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于使低温冷却系统(10)达到并保持低温冷却的方法，所述低温冷却系统(10)具有制冷剂密封容器(18)，该容器中装有处于液态的制冷剂(46、48)和气态的制冷剂(44)，并具有至少一个超导体(24)，该方法包括以下步骤：在制冷剂密封容器(18)中保持加压制冷剂区域(44)；以及用过冷装置(20)将一部分液体制冷剂(48)的温度保持在等于或低于其沸点的温度。
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