[发明专利]制造多层光学元件的方法有效

专利信息
申请号: 200480017497.2 申请日: 2004-06-17
公开(公告)号: CN1809770A 公开(公告)日: 2006-07-26
发明(设计)人: 吉野邦彦 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G02B5/28 分类号: G02B5/28
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 车文;樊卫民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 通过真空蒸发在玻璃基底(BK7)(1)上形成铝膜(2),并且通过离子溅射法在此铝膜(2)上形成多层光学薄膜(3)。之后,通过切割将这种部件切成小片,并再通过氢氧化钠溶液蚀刻铝膜(2),以致于玻璃基底(1)和多层光学薄膜(3)分离。当铝膜厚度超过90nm时,在多层光学薄膜(3)中出现模糊,而当铝膜厚度小于10nm时,不能够干净地执行玻璃基底与多层光学薄膜的分离。因此,铝膜厚度设在10~90nm的范围内。
搜索关键词: 制造 多层 光学 元件 方法
【主权项】:
1.一种制造多层膜光学元件的方法,包括步骤:在基底上形成可溶性载体的薄膜;在该可溶性载体的顶部上形成多层光学薄膜;和随后溶解可溶性载体的薄膜,使得基底和多层光学薄膜分离,其中可溶性载体为铝,并且该可溶性载体的厚度设为10~90nm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社尼康,未经株式会社尼康许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200480017497.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top