[发明专利]沉积微滴的装置有效
| 申请号： | 200480018612.8 | 申请日： | 2004-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN1816451A | 公开（公告）日： | 2006-08-09 |
| 发明（设计）人： | 梅尔文·L·比格斯;史蒂文·H·巴斯;保罗·A·霍伊辛顿 | 申请（专利权）人： | 迪马蒂克斯股份有限公司 |
| 主分类号： | B41J2/06 | 分类号： | B41J2/06;B05C11/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 马高平;杨梧 |
| 地址： | 美国新罕*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了一种将微滴沉积在基片上的装置。该装置包括一用于基片的支承件；包括泵送腔的一微滴喷射组件；一控制器和将泵送腔中的总压力保持在阈值压力水平以上以避免在泵送腔中发生整流扩散式的气泡生长的一静压力源。该微滴喷射组件位于支承件上方，用于将微滴沉积在基片上，并且除了泵送腔以外，还包括一移位件和一喷射微滴的喷孔。所述控制器向该移位件提供信号，以喷射微滴。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 装置 | ||
【主权项】：
1.一种在基片上沉积微滴的装置，该装置包括：用于所述基片的一支承件；一微滴喷射组件，其位于所述支承件上方，用于将所述微滴沉积在所述支承件上的所述基片上，所述微滴喷射组件包括一泵送腔、一移位件和一喷射所述微滴的喷孔；一控制器，用于向所述移位件提供信号以喷射微滴；和一静压力源，用于将所述泵送腔中的总压力提高至一阈值压力水平以上，以避免在所述泵送腔中发生整流扩散式的气泡生长。
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