[发明专利]基板处理系统

摘要

本发明提供了基板处理系统，其有效地利用了用于处理基板表面的必要的活性物质或载气，简化了用于气体传递的设备，并节省了能源。所述系统包括用于供应包含活性物质的过程气的气体供应源(12)，用于储存所述过程气的与气体供应源(12)相连的储罐(14)，用于使置于其中的基板暴露于所述过程气中的反应器(10)，用于将反应器(10)内部的过程气引入储罐(14)的第一循环管(38)，用于将储罐(14)中的至少部分过程气引入反应器(10)的第二循环管(42)，和安置于第二循环管(42)中的用于调节待引入反应器(10)中的过程气的量的流量调节阀(44)。

主权项

1.基板处理系统，其包括：用于供应包含活性物质的过程气的气体供应源；用于储存所述过程气的与所述气体供应源相连的储罐；用于使置于其中的基板暴露于所述过程气中的反应器；用于将所述反应器内部的过程气引入所述储罐的第一循环管；用于将所述储罐中的至少部分过程气引入所述反应器的第二循环管；安置于所述第二循环管中的用于调节待引入所述反应器中的过程气的量的流量调节阀。