[发明专利]物理气相沉积部件和线圈的重新磨光方法无效
| 申请号： | 200480018752.5 | 申请日： | 2004-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN1816644A | 公开（公告）日： | 2006-08-09 |
| 发明（设计）人： | J·D·米泽 | 申请（专利权）人： | 霍尼韦尔国际公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;B08B3/08 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 廖凌玲 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种经过使用的物理气相沉积部件的重新磨光方法包括提供在部件表面上具有沉积层的经过使用的物理气相沉积部件例如射频线圈(120)并且使用第一种含酸蚀刻剂对所述沉积层进行一次蚀刻。在所述一次蚀刻后，所述方法包括使磨料颗粒夹带在气体流中、使所述颗粒撞击所述蚀刻层并对所述蚀刻层进行磨蚀。在磨蚀后，所述方法包括使用第二种含酸蚀刻剂对所述磨蚀层进行二次蚀刻。 | ||
| 搜索关键词： | 物理 沉积 部件 线圈 重新 磨光 方法 | ||
【主权项】：
1、一种经过使用的物理气相沉积部件的重新磨光方法，包括以下步骤：提供在部件表面上具有沉积层的经过使用的物理气相沉积部件；使用第一种含酸蚀刻剂对所述沉积层进行一次蚀刻；在所述一次蚀刻后，使磨料颗粒夹带在气体流中、使所述颗粒撞击所述蚀刻层并对所述蚀刻层进行磨蚀；以及在磨蚀后，使用第二种含酸蚀刻剂对所述磨蚀层进行二次蚀刻。
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