[发明专利]用于光学器件的聚合物共混物及其制造方法无效
| 申请号： | 200480018869.3 | 申请日： | 2004-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN1816439A | 公开（公告）日： | 2006-08-09 |
| 发明（设计）人： | 萨夫沃特·塔德罗斯;帕明德·阿加沃尔;施雷亚斯·查尔克拉瓦蒂;彼得·沃伦伯格 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | B29C67/24 | 分类号： | B29C67/24;B29C71/02;B29D11/00;C08L69/00;C08L67/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 贾静环;宋莉 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 制备膜或片材的方法，包括在有效赋予变形的合金双折射延迟大于或等于约350纳米的温度将聚合物合金变形。基本消除光学膜或片材的彗星纹和脉纹的方法，包括将包含聚合物合金的膜或片材退火到接近合金中所含的聚合物树脂的玻璃化温度的温度。组合物包括约1％至99％重量的第一聚合物树脂；约1％至99％重量的第二聚合物树脂，其中聚合物树脂用有效产生双折射延迟大于或等于约350纳米或小于或等于约150纳米的聚合物合金的变形力或能量处理。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学 器件 聚合物 共混物 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.制造膜或者片材的方法，包括在有效赋予变形的合金大于或等于约350纳米的双折射延迟的温度将聚合物合金变形。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于通用电气公司，未经通用电气公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200480018869.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：管接合装置
- 下一篇：用于测量心率和脉搏速率的超声波监控器
