[发明专利]磁头与介质界面电荷的测量与中和无效

专利信息
申请号: 200480019055.1 申请日: 2004-05-07
公开(公告)号: CN1830027A 公开(公告)日: 2006-09-06
发明(设计)人: Z·冯;E·查;X·张 申请(专利权)人: 新科实业有限公司
主分类号: G11B5/60 分类号: G11B5/60;G11B33/14;G11B21/21;B05D5/12
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 杨凯;王忠忠
地址: 中国*** 国省代码: 中国香港;81
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摘要: 发明公开了用于测量和中和磁头与诸如盘的磁性存储介质界面的电荷的系统与方法。给磁头施加表面处理材料。所述表面处理材料与磁性存储介质表面上的介质表面材料相匹配。在磁性读/写头上的表面处理材料可以是氟化碳,诸如Fomblin Z-衍生物、全氟烷基三氯硅烷、FC-722、或氟化的聚合物。所述表面处理材料可通过汽相沉积处理或液体浸没处理施加到磁头上。头-盘界面上的电荷可以通过在读取先前写入该盘的信号时施加到该头的变化的外部电荷进行测量。
搜索关键词: 磁头 介质 界面 电荷 测量 中和
【主权项】:
1、一种磁性读/写设备,包括:从磁性存储介质读取数据和向所述磁性存储介质写入数据的磁头;以及与所述磁性存储介质表面上的介质表面材料匹配的表面处理材料。
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