[发明专利]提供改良的双层光刻胶图案的方法有效
| 申请号： | 200480019216.7 | 申请日： | 2004-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN1816777A | 公开（公告）日： | 2006-08-09 |
| 发明（设计）人： | H·肖;H·H·朱;K·－L·唐;S·M·R·萨亚迪 | 申请（专利权）人： | 兰姆研究有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09;H01L21/768 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨凯;王忠忠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了在一个层中蚀刻出特征的方法，在所述层上形成聚合物材料的底层，在底层上形成上部图像层，将所述上部图像层在被图案化的辐射下曝光，在上部图像层中将图案显影，用还原干法蚀刻将图案从上部图像层移至底层，透过底层蚀刻所述层，其中上部图像层被完全去除，在蚀刻所述层时底层被当作图案掩模使用，以将图案从底层移至所述层。 | ||
| 搜索关键词： | 提供 改良 双层 光刻 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种在一个层上蚀刻出特征的方法，包括如下步骤：在所述层上形成聚合物材料的底层；在所述底层上形成上部图像层；将所述上部图像层在图案化的辐射下曝光；在所述上部图像层中将图案显影；用还原干法蚀刻将所述图案从上部图像层移至底层；以及透过底层蚀刻所述层，其中上部图像层被完全去除且在蚀刻所述层时底层被当作图案掩模使用，以将图案从底层移至所述层。
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