[发明专利]形成离子传递膜结构的方法无效

专利信息
申请号: 200480019486.8 申请日: 2004-06-10
公开(公告)号: CN101304812A 公开(公告)日: 2008-11-12
发明(设计)人: H·陈;J·C·陈;P·J·库巴西维茨 申请(专利权)人: 普莱克斯技术有限公司
主分类号: B05D3/04 分类号: B05D3/04
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 韦欣华;李连涛
地址: 美国康*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 形成用于离子传递膜的复合结构的方法,其中填料物质(14)施加到多孔载体层(10)的一个表面(16)上,以堵塞孔(12)和防止涂覆的离子传导材料穿透孔(12)从而降低气体扩散量。在用可以是氧离子传导层(18、20)的层涂覆表面(16)之前,去除过量的填料物质(14)。在涂覆表面(16)后,从孔(12)中去除填料物质(14)。
搜索关键词: 形成 离子 传递 膜结构 方法
【主权项】:
1、形成用于离子传递膜的复合结构的方法,包括:将填料物质施加到具有孔的多孔载体层的一个表面上,使得所述填料物质进入所述孔中;从所述多孔载体层的所述一个表面上去除多余量的所述填料物质;在所述填料物质在孔中适合位置的情况下,在所述多孔载体层的所述一个表面上形成至少一个材料层;和在所述一个表面上形成了所述至少一个材料层后,从所述孔中去除所述填料物质。
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