[发明专利]用于光敏组合物的显影液和形成图案化抗蚀膜的方法无效
| 申请号： | 200480020014.4 | 申请日： | 2004-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN1823303A | 公开（公告）日： | 2006-08-23 |
| 发明（设计）人： | 长原达郎;武藤正;林昌伸 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料（日本）株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种显影液，它能以简便方式显影光敏组合物，同时保持令人满意的感光度和分辨率，还提供了一种使用所述显影液形成图案的方法。这种显影液包含一种含选自由胺－N－氧化物基、磺酸根、硫酸根、羧酸根和磷酸根组成的组中的亲水基的化合物，它特别适合用于含有含硅聚合物的光敏组合物的显影。本发明还涉及使用所述显影液形成图案的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光敏 组合 显影液 形成 图案 化抗蚀膜 方法 | ||
【主权项】：
1.用于光敏组合物显影的显影液，其特征在于包含一种化合物和水，该化合物含有至少一种选自由胺-N-氧化物基、磺酸根、硫酸根、羧酸根和磷酸根组成的组中的亲水基。
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