[发明专利]大型零件的抛光方法及在该方法中使用的磨料无效
| 申请号： | 200480020173.4 | 申请日： | 2004-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN1822921A | 公开（公告）日： | 2006-08-23 |
| 发明（设计）人： | 上村健司;浅井知;谷中悟;坪井竜介;田沼唯士;菊地正孝 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | B24C11/00 | 分类号： | B24C11/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 王琼 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种用于对大型零件进行抛光的方法，通过以每分钟600米至3800米的速度和每单位面积的体积为5至300立方厘米/平方厘米·秒向大型零件的将被抛光的表面射出和碰撞磨料(110)来对大型零件的将被抛光的表面进行抛光，其中磨料(110)包括磨粒(112)和具有比重为0.5至1.8克/立方厘米和弹性为10至200kg/cm2的弹性石油化学高聚物材料或弹性天然材料(111)。 | ||
| 搜索关键词： | 大型 零件 抛光 方法 使用 磨料 | ||
【主权项】：
1.一种用于对大型零件进行抛光的方法，其特征在于，大于或等于0.1毫米并且小于或等于10.0毫米的粒状磨料以大于或等于每分钟600米并且小于或等于每分钟3800米的速度、以单位面积的体积为5至300立方厘米/平方厘米·秒喷射到将被抛光的表面上，其中粒状磨料包括作为附着到射出材料的周围或是分散到射出材料中的磨料材料的磨粒，磨料与将被抛光的表面碰撞并且滑动，并且附着到磨料上或是分散在磨料中的磨粒对将被抛光的表面进行抛光。
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