[发明专利]磁共振成像方法及装置有效
| 申请号： | 200480020631.4 | 申请日： | 2004-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN1822790A | 公开（公告）日： | 2006-08-23 |
| 发明（设计）人： | 宫胁升一;竹内博幸;齐藤安正 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立医药 |
| 主分类号： | A61B5/055 | 分类号： | A61B5/055;G01R33/385 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种磁共振成像方法，具有：步骤1，其连续施加至少1个脉冲以上的倾斜磁场；步骤2，其根据表示施加的倾斜磁场的强度与由其产生的剩余磁场的强度之间的关系的剩余磁场响应函数，计算在所述倾斜磁场的作用下，在磁铁装置中产生的剩余磁场；步骤3，其修正所述计算的剩余磁场；以及步骤4，其使所述步骤2中使用的剩余磁场响应函数，依存于所述连续施加的倾斜磁场的施加履历，随着时间更新。 | ||
| 搜索关键词： | 磁共振 成像 方法 装置 | ||
【主权项】：
1、一种磁共振成像方法，具有：步骤1，其连续施加至少1个脉冲以上的倾斜磁场；步骤2，其根据表示施加的倾斜磁场的强度与由其产生的剩余磁场的强度之间的关系的剩余磁场响应函数，计算在所述倾斜磁场的作用下，在磁铁装置中产生的剩余磁场；以及步骤3，其修正所述计算的剩余磁场，其特征在于：具有步骤4，其使所述步骤2中使用的剩余磁场响应函数，依存于所述连续施加的倾斜磁场的施加履历，随着时间更新。
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