[发明专利]光学记录介质和制造该光学记录介质的方法、及针对该光学记录介质的数据记录和再现的方法无效
| 申请号： | 200480020933.1 | 申请日： | 2004-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN1826646A | 公开（公告）日： | 2006-08-30 |
| 发明（设计）人： | 福泽成敏;菊川隆;小林龙弘 | 申请（专利权）人： | TDK株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/24 | 分类号： | G11B7/24;G11B7/26;G11B7/00;B41M5/26 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张天舒 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光学记录介质(10)，它包括支撑基板(11)、透光层(12)、和插入到所述透光层(12)和所述支撑基板(11)之间的第一电介质层(31)、贵金属氮化物层(23)、第二电介质层(32)、光吸收层(22)、第三电介质层(33)、和反射层(21)。在本发明的光学记录介质中，激光束(40)从光入口面(12a)照射到基板上，来局部分解贵金属氮化物层(23)，并且能够通过由此产生的气泡坑来形成记录标记。由于充满形成记录标记的气泡坑的气体是化学性质稳定的氮气(N2)。所以所述气体氧化或腐蚀其它层的几率极低，从而可实现很高的存储可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 记录 介质 制造 方法 针对 数据 再现 | ||
【主权项】：
1.一种光学记录介质包括：基板；以及设置在所述基板上的贵金属氮化物层。
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