[发明专利]光催化剂片及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200480021102.6 申请日: 2004-07-02
公开(公告)号: CN1826224A 公开(公告)日: 2006-08-30
发明(设计)人: 阿部和广;丰田宏;中田贵之;冈本英一;藤嶋昭;桥本和仁 申请(专利权)人: 太阳工业株式会社
主分类号: B32B27/30 分类号: B32B27/30
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 于辉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供了一种新的光催化剂片,其中用氟树脂涂覆的基底容易相互焊接,并且通过用包含光催化剂的氟树脂涂覆膜/织物结构的最外表面,所述光催化剂片具有高的防污特性,并且该光催化剂片包含基底(2)、涂覆在所述基底(2)上的第一氟树脂层(3)、涂覆在所述第一氟树脂层(3)上的第二氟树脂层(4)和涂覆在所述第二氟树脂层(4)上的包含光催化剂的第三氟树脂层(5)。第一氟树脂层(3)的熔点可以高于第二氟树脂层(4)和第三氟树脂层(5)的熔点。
搜索关键词: 光催化剂 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种光催化剂片,其特征在于其包含:基底;涂覆在所述基底上的第一氟树脂层;涂覆在所述第一氟树脂层上的包含光催化剂的第二氟树脂层;和涂覆在所述第二氟树脂层上的包含光催化剂的第三氟树脂层。
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