[发明专利]半导体器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200480021710.7 申请日: 2004-11-10
公开(公告)号: CN1830083A 公开(公告)日: 2006-09-06
发明(设计)人: 胁坂伸治;定别当裕康;若林猛;三原一郎 申请(专利权)人: 卡西欧计算机株式会社
主分类号: H01L23/538 分类号: H01L23/538
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 蔡胜利
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 第一半导体元件(4)贴装在底板(1)上面,并且处于其外围由绝缘元件(16)覆盖并且其上表面由上部绝缘膜(17)覆盖的密封状态中。形成于上部绝缘膜(17)上面的上部布线层(20,24)和通过下部绝缘膜(31,34)形成于底板(1)下面的下部布线层(33,37)通过导体(43)相连。第二半导体元件(40)露出贴装,并与下部布线层(33,37)相连。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种半导体器件,包括:第一半导体元件(4),其具有多个用于外部连接的电极(14);绝缘元件(16),其设置在第一半导体元件(4)的外围;上部布线结构(17,20,21,24),其形成于第一半导体元件(4)和绝缘元件(16)的上表面上;下部布线结构(2,1,3,31,33,34,37),其形成于第一半导体元件(4)和绝缘元件(16)的下表面上;和第二半导体元件(40,71,77),其贴装在上部布线结构(17,20,21,24)和下部布线结构(2,1,3,31,33,34,37)中至少一者的上面。
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