[发明专利]染料系偏振板有效
申请号: | 200480022698.1 | 申请日: | 2004-08-06 |
公开(公告)号: | CN1833186A | 公开(公告)日: | 2006-09-13 |
发明(设计)人: | 贞光雄一;川边和幸 | 申请(专利权)人: | 日本化药株式会社;宝来技术株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02F1/1335 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王健 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的在于提供染料内含的副产物的影响少、具有可见光范围及紫外区中优异的偏振光性能与耐湿性、耐热性的高性能的偏振板。在聚乙烯醇系树脂薄膜中含有游离酸形式的上式(1)表示的水溶性染料或其盐的90%以上的高纯度品的染料系偏振膜的至少一面贴合380nm下的透过率70%以上的薄膜,构成偏振板。式中,R1,R2表示氢原子、卤原子、低级烷基、低级烷氧基或羧基,R3、R4表示氢原子、卤原子、低级烷基、低级烷氧基或羟基,X表示O、S、NH或NCH3。另外,l、m表示0、1或2,l+m>0。 | ||
搜索关键词: | 染料 偏振 | ||
【主权项】:
1.染料系偏振膜,其特征在于,在聚乙烯醇系树脂薄膜中含有游离酸的形式的下述式(1)表示的纯度90%以上的水溶性染料或其盐,
式中,R1、R2表示氢原子、卤原子、低级烷基、低级烷氧基或羧基,R3、R4表示氢原子、卤原子、低级烷基、低级烷氧基或羟基,X表示O、S、NH或NCH3,而l、m表示0、1或2,l+m>0,该偏振膜在近紫外区有偏振光特性。
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