[发明专利]等离子处理方法以及装置无效
| 申请号： | 200480022737.8 | 申请日： | 2004-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN1833473A | 公开（公告）日： | 2006-09-13 |
| 发明（设计）人： | 高妻诚;小宫广实 | 申请（专利权）人： | 积水化学工业株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24;H05H1/46;H01L21/205;H01L21/3065;H01L21/304;C23C16/505 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在等离子处理中，按照得到稳定的放电和较高的输出效率的方式设定给电极之间供电的供电频率的范围。在等离子处理装置中，设置有由对电源电压进行升压的变压器(22)的二次线圈(22b)，和相互对置的一对电极(11)、(12)组成的电极电路(1)。在电极(11)、(12)的至少一方的对置面上设置有固体电介质(13)。电极电路(1)，由二次线圈的漏电感和电极的电容组成LC串联共振电路。将给电极电路(1)供电的供电频率，设定在非放电时的共振频率，与将电极之间的空间(10p)看作导体时的共振频率之间。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 方法 以及 装置 | ||
【主权项】：
1、一种等离子处理方法，具备包括相互对置的一对电极和电感器的电极电路，采用在至少一方的电极的对置面设置有固体电介质的等离子处理装置，在所述电极彼此之间的空间导入处理气体，同时给所述电极电路供电后进行等离子处理，其特征在于，将在该处理时给电极电路的供电频率，设定在非放电时的共振频率(以下称作“第1共振频率”)，和在将所述电极之间的空间看作导体时的共振频率(以下称作“第2共振频率”)之间。
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