[发明专利]含钛层用蚀刻液以及含肽层的蚀刻方法无效
| 申请号： | 200480023396.6 | 申请日： | 2004-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN1836061A | 公开（公告）日： | 2006-09-20 |
| 发明（设计）人： | 石川诚;河瀬康弘;齐藤范之 | 申请（专利权）人： | 三菱化学株式会社 |
| 主分类号： | C23F1/26 | 分类号： | C23F1/26 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元;赵仁临 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供含钛层用蚀刻液和含钛层蚀刻方法，所述蚀刻液是蚀刻形成在硅基板上或硅酸类玻璃基板上的以选自钛、钛氧化物、钛氮化物以及钛氧氮化物中的1种或2种或2种以上为主要成分的含钛层的蚀刻液，是含有氟硅酸的含钛层用蚀刻液，能够以快的蚀刻速度且不会侵蚀基板地选择性地进行蚀刻。所述蚀刻方法是使用该蚀刻液蚀刻硅基板或硅酸类玻璃基板上的含钛层的蚀刻方法。氟硅酸是氢氟酸和硅或氧化硅反应生成的物质，对于硅或硅酸类玻璃是非活性的，而对于钛、钛氧化物、钛氮化物或钛氧氮化物具有充分的蚀刻性能，对于硅基板上或硅酸类玻璃基板上含钛层的蚀刻具有充分的选择性。 | ||
| 搜索关键词： | 含钛层用 蚀刻 以及 含肽层 方法 | ||
【主权项】：
1.一种含钛层用蚀刻液，该蚀刻液是，蚀刻形成在硅基板上或硅酸类玻璃基板上的以选自钛、钛氧化物、钛氮化物以及钛氧氮化物中的1种或2种或2种以上为主要成分的含钛层的蚀刻液，其特征在于，该蚀刻液含有氟硅酸。
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