[发明专利]使用光阀阵列和光会聚阵列形成光学图像无效
| 申请号： | 200480024422.7 | 申请日： | 2004-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN1842748A | 公开（公告）日： | 2006-10-04 |
| 发明（设计）人： | J·H·A·范德里德特;R·蒂默曼斯 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘红;张志醒 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种无掩模光刻方法及装置，藉此在辐射源和辐射敏感层(3)之间提供光阀(7)和辐射会聚元件(17)的对应设置。每个会聚元件对应于一个不同的光阀(7)，并将来自对应光阀(7)的辐射会聚到辐射敏感层(3)中的斑点区域上。每个光阀(7)可以根据将被所述光阀(7)在辐射敏感层(3)中写入的图像在开和关状态之间切换。光会聚元件(17)被提供在单个单一光学元件中，并且布置在基本等于或者大于辐射敏感层(3)的宽度或者长度的单行中。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 阵列 会聚 形成 光学 图像 | ||
【主权项】：
1.一种在辐射敏感层中形成光学图像的方法，所述方法包括下面的步骤：提供辐射源(15)；提供辐射敏感层(3)；在所述辐射源(15)和所述辐射敏感层(3)之间定位多个单独控制的光阀(7)；在所述多个光阀(7)和所述辐射敏感层(3)之间定位多个辐射会聚元件(17)，使得每个会聚元件对应于一个不同的光阀(7)，并且将来自对应光阀(7)的辐射会聚到辐射敏感层(3)中的斑点区域上；和一方面，通过扫描所述层(3)在辐射敏感层区域中同时写入图像部分，另一方面，相关的光阀(7)会聚元件对彼此相对并且根据将被所述光阀写入的图像部分在开和关状态之间切换每个光阀(7)；所述方法的特征在于：所述辐射会聚元件以长度基本等于或者大于辐射敏感层(3)的宽度或者长度的单行按并排关系布置。
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