[发明专利]涂有介电层的基材及其制造方法和制造装置无效

专利信息
申请号: 200480024728.2 申请日: 2004-06-28
公开(公告)号: CN1842500A 公开(公告)日: 2006-10-04
发明(设计)人: C·博贝;K·菲舍尔;M·勒尔根;J·-C·吉龙;N·纳多;E·马特曼;J·-P·鲁索;A·霍夫里希特;M·扬森 申请(专利权)人: 法国圣戈班玻璃厂
主分类号: C03C17/22 分类号: C03C17/22;C03C17/245;C23C14/34
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘维升;段晓玲
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 发明涉及其上面涂有至少一层电介质薄层的诸如玻璃基材的基材(1)。按照本发明,借助于比如磁场辅助和优选在氧和/或氮存在下的反应性的阴极雾化,在曝露在来源于离子源(4)的至少一束离子束(3)的条件下沉积电介质层。本发明的特征在于,所述曝露在离子束下的电介质层被结晶。
搜索关键词: 涂有介电层 基材 及其 制造 方法 装置
【主权项】:
1.基材,特别是玻璃基材,其涂布有至少一层电介质薄层,该薄层通过阴极雾化,特别是磁场辅助和优选在氧和/或氮存在下的反应性的阴极雾化,通过曝露在至少一种来自于离子源(4)的离子束(3)下沉积,其特征在于,曝露在离子束下的所述电介质层是结晶的。
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