[发明专利]氮化物类半导体元件有效

专利信息
申请号: 200480024805.4 申请日: 2004-09-22
公开(公告)号: CN1842917A 公开(公告)日: 2006-10-04
发明(设计)人: 大塚康二;杢哲次;佐藤纯治;多田善纪;吉田隆 申请(专利权)人: 三垦电气株式会社
主分类号: H01L29/26 分类号: H01L29/26;H01L29/73;H01L29/78;H01L33/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 浦柏明;刘宗杰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 准备了掺杂p型杂质而且具有充分导电性的p型硅基板1。在基板1上依次外延生长由n型AlInGaN构成的缓冲区3、由n型GaN构成的n型氮化物半导体层13、有源层14及由p型GaN构成的p型氮化物半导体层15。通过p型硅基板1与由n型AlGaInN构成的n型缓冲区3的异质结中的界面能级,提高硅基板1的载流子向n型缓冲区3的输运效率,降低发光二极管的驱动电压。
搜索关键词: 氮化 物类 半导体 元件
【主权项】:
1.一种氮化物类半导体元件,其特征在于,具备:具有导电性的p型硅基板;在上述p型硅基板的一个主面上形成的n型氮化物半导体区;用于形成配置在上述n型氮化物半导体区上的半导体元件的主要部分的主半导体区;与上述主半导体区连接的第1电极;以及与上述p型硅基板的另一个主面连接的第2电极。
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