[发明专利]超导膜及其制造方法无效
| 申请号： | 200480024812.4 | 申请日： | 2004-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN1842878A | 公开（公告）日： | 2006-10-04 |
| 发明（设计）人： | 松本要;向田昌志;吉田隆;一濑中;堀井滋 | 申请（专利权）人： | 独立行政法人科学技术振兴机构;财团法人电力中央研究所 |
| 主分类号： | H01B12/06 | 分类号： | H01B12/06;H01B13/00;H01L39/24;C01G1/00;C01G3/00;C23C14/08 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种超导膜及其制造方法，该超导膜包括基底以及在基底上形成的超导层，其中，在该基底表面形成了平行于电流方向的纳米凹槽，并在位于该纳米凹槽上的超导层中引入了二维晶体缺陷。本发明的超导膜以低成本获得且具有很高的Jc，可应用于电缆、磁体、防护体、限流器、微波设备以及这些制品的半成品中。 | ||
| 搜索关键词： | 超导 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种超导膜，其具有基底以及在该基底上形成的超导层，其中，基底表面形成了平行于电流方向的纳米凹槽，该基底表面上具有超导层，并在该纳米凹槽上的超导层中引入了二维晶体缺陷。
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