[发明专利]辉光放电产生的化学气相沉积无效
| 申请号： | 200480025061.8 | 申请日： | 2004-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN1845797A | 公开（公告）日： | 2006-10-11 |
| 发明（设计）人： | A·M·加贝尔尼克;C·兰伯特 | 申请（专利权）人： | 陶氏环球技术公司 |
| 主分类号： | B05D7/24 | 分类号： | B05D7/24;C23C16/505;C23C16/40 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 程伟;王初 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了一种使用辉光放电在基材上产生等离子聚合沉积的方法。在电极和对电极之间产生辉光放电。使平衡气体和四烷基原硅酸酯的混合物通过辉光放电流到基材上以便在基材上沉积作为光学透明涂层的涂层或产生表面改性。优选在大气压或近似大气压下进行的该方法可用于产生光学透明的无粉或几乎无粉的涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 辉光 放电 产生 化学 沉积 | ||
【主权项】：
1.在基材的暴露面上沉积涂膜的方法，其特征在于下列步骤：(a)在电极和对电极之间的区域产生辉光放电；和(b)使含有平衡气体、四烷基原硅酸酯和任选的用于四烷基原硅酸酯的载气的混合物以大约0.05米/秒至大约5米/秒的流速流过辉光放电区域并流到所述基材的至少一个表面上或该表面附近，该混合物中四烷基原硅酸酯的浓度为超过2000ppm至大约10000ppm以便在基材上形成涂膜。
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