[发明专利]两相薄膜材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 200480025294.8 申请日: 2004-09-23
公开(公告)号: CN1846155A 公开(公告)日: 2006-10-11
发明(设计)人: 帕维尔·I·拉扎列夫;叶连娜·N·西多连科 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;C09K19/00
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 章社杲;张英
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供了两相薄膜材料及其制备方法。该两相薄膜材料通常包括第一相,该第一相包括超分子晶体薄膜;以及第二相,该第二相包括聚合物薄膜。制备两相薄膜材料的方法包括以下步骤:制备包括有机化合物分子的超分子溶致液晶,该有机化合物包括至少一个极性基团;沉积一层溶致液晶;对该LLC层施加外部取向作用;以及通过用粘合剂处理该LCC层。
搜索关键词: 两相 薄膜 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种制备两相薄膜材料的方法,包括以下步骤:在极性溶剂中制备溶致液晶,所述极性溶剂包括超分子,所述超分子包括有机化合物的分子,其中每个分子包括至少一个极性基团;在基片上沉积一层所述溶致液晶;施加外部取向作用;除去所述溶剂,以形成超分子晶体薄膜;利用粘合剂处理所述薄膜,所述粘合剂包括至少一个活性基团,接着形成聚合物相以及所述活性基团与所述薄膜的极性基团的化学相互作用;以及固化聚合物薄膜相,以形成所述两相薄膜材料。
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