[发明专利]用于制造光电光调制器的方法无效

专利信息
申请号: 200480025674.1 申请日: 2004-10-08
公开(公告)号: CN1849550A 公开(公告)日: 2006-10-18
发明(设计)人: 陈仙海;大卫·鲍尔温;亚历山大·纳吉 申请(专利权)人: 光子动力学公司
主分类号: G02F1/1334 分类号: G02F1/1334;G02F1/1335;G02F1/13;G02F1/1333;C03C27/00;B32B37/00
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 代理人: 余朦;方挺
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 在光电光调制器中,将例如聚合物分散液晶、或PDLC的光电传感材料直接涂覆在光学玻璃基底上,光学玻璃基底在其表面具有透明电极(例如铟锡氧化物(ITO))、以及可选择的钝化覆层(例如SiO2)。聚合物粘合剂薄层覆盖在PDLC层的顶部,并且接着优选地通过真空辅助将这两个覆层与聚合物薄膜(例如MylarTM)上的介质镜层合在一起。
搜索关键词: 用于 制造 电光 调制器 方法
【主权项】:
1.一种用于制造光电传感器的方法,所述方法包括:提供玻璃基底,所述基底包括光学平滑的顶面和光学平滑的底面;用透明电极覆盖所述玻璃基底的顶面;在所述透明电极上施加光电传感材料合成物层;在所述光电传感材料层的所述层上施加薄的粘合层;以及将作为介质镜层支撑膜的薄膜层合到所述粘合层,从而使所述介质镜层基本上光学平滑地抵靠所述光电传感材料。
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