[发明专利]挥发性材料上的介质覆层真空淀积无效
| 申请号： | 200480025676.0 | 申请日： | 2004-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN1849406A | 公开（公告）日： | 2006-10-18 |
| 发明（设计）人： | 拉吉夫·派特;普拉莫德·古普塔;陈仙海;亚历山大·纳吉 | 申请（专利权）人： | 光子动力学公司 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C14/06;G02F1/061 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 余朦;方挺 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 为了在真空环境下，在挥发性凝胶状层(例如，具有透明电极的光学玻璃基底上的聚合物分散液晶(PDLC))的表面上施加任意的覆层(例如铟锡氧化物(ITO))，首先将中间的吸收应力的聚合物材料覆盖在挥发性凝胶状层上以防止挥发物挥发和溢出，其后，在超高真空环境下使用例如被称为物理汽相淀积(PVD)或溅射的技术施加覆层。 | ||
| 搜索关键词： | 挥发性 材料 介质 覆层 真空 | ||
【主权项】：
1.一种用于在高度真空的环境中直接涂覆挥发性凝胶材料的方法，包括：将挥发性凝胶材料层施加到固体基底上；将吸收压力的聚合物粘合材料层应用到所述挥发性凝胶材料的表面以阻止挥发，并允许所述聚合物粘合材料层干燥以形成被涂覆的基底，然后将所述被涂覆的基底置于高度真空中；以及通过物理汽相淀积用预定的材料涂覆所述被涂覆的基底的所述吸收应力的聚合物粘合材料层。
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